集成电路布图设计简介（一）

1、国际保护制度

2、国内保护制度

1、专有权的客体

条例第二条：……集成电路布图设计，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。

条例第五条：本条例对布图设计的保护，不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。

2、独创性

条例第四条：受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。

（1）原创性——主观要求

（2）非常规设计——客观要求

3、权利的内容

（1）保护范围

（2）复制权

条例第七条：布图设计权利人享有下列专有权：（一）对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制……

条例第二条：……复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为……

（3）商业利用权

条例第七条：……（二）将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。

条例第二条：……商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。

（4）转让许可权

条例第二十二条：布图设计权利人可以将其专有权转让或者许可他人使用其布图设计。

转让布图设计专有权的，当事人应当订立书面合同，并向国务院知识产权行政部门登记，由国务院知识产权行政部门予以公告。布图设计专有权的转让自登记之日起生效。

许可他人使用其布图设计的，当事人应当订立书面合同。

4、权利的期限

条例第十二条：布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受本条例保护。

条例第十七条：布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起２年内，未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记。